정부와 민간이 반도체 공정에 세척용으로 사용되는 초순수 생산기술을 공동 개발한다.

환경부는 한국수자원공사, 한국환경산업기술원과 함께 ‘고순도 공업용수 설계·시공·운영 통합 국산화 기술개발’ 사업에 착수하고, 이를 통해 반도체 사업의 필수원료인 초순수 생산기술 국산화를 본격 추진한다고 지난 14일 밝혔다.

‘고순도 공업용수 설계·시공·운영 통합 국산화 기술개발’은 2019년 일본의 수출규제에 대응하기 위한 조치 중하나로 추진됐다.

이는 국산기술을 활용해 반도체 공정에서 사용되는 고순도 공업용수를 생산·공급하는 기술개발(R&D) 사업으로 정부와 민간이 합작해 480억원을 쏟는다.

초순수는 수 백개 반도체 생산 단위공정 중 나오는 부산물, 오염물 등을 세정할 때 쓰이는 필수 공업용수다.

초미세회로로 구성된 반도체를 세척해야 하기 때문에 총유기탄소량(TOC) 농도가 ‘10억분의 1(ppb)’ 이하일 정도로 고순도를 유지해야 한다.

그간 우리나라는 삼성전자 평택공장 기준으로 반도체 사용 용수 30만톤 가운데 50%를 차지하는 초순수 공업 용수의 생산·공급을 일본 구라타 등 해외업체에 의존했다.

특히 공정설계, 초순수 배관, 수처리 약품 등을 일본에 의존하고 있어 수출규제 등 외부환경에 매우 취약한 상황이다.

환경부는 올해부터 고순도 공업용수 생산을 위한 핵심부품인 자외선 산화장치(UV)와 용존산소 제거용 탈기 막 국산화 기술개발에 나설 예정이다.

또 한국수자원공사는 2025년까지 하루에 2400톤의 초순수를 생산하는 실증플랜트를 실제 반도체 공급업체에 설치·운영할 계획이다.

초순수 생산 시설이 완료되면 반도체 설계·시공·운영 단계별로 쓰이는 초순수 공정의 최대 60%를 국산화할 것으로 기대된다.

기술개발은 △초저농도 유기물 제거용 자외선 산화장치 △초저농도 용존산소 제거용 탈기막 △고순도 공업용수 설계·시공·운영 통합 △고순도 공업용수 공정 및 수질 성능평가 △반도체 폐수를 이용한 고순도 공업용 원수 확보 등 5개 세부 과제별로 추진된다.