앞으로는 대기업이 중소기업의 기술을 침해한 경우에는 관련자를 최대 징역 6년에 처하는 등 법원에서 가중 처벌될 전망이다.

대법원 양형위원회는 지난 4일 열린 77차 양형위원회 전체회의를 열고 이런 내용을 핵심으로 하는 지식재산권범죄 양형기준안을 의결했다.

양형기준은 기본 구간을 원칙적으로 적용하면서 범법행위에 가중인자가 있으면 더 무거운 형을 규정한 가중영역구간을 적용하고 감경인자가 있으면 더 가벼운 구간에 해당하는 형을 선고하는 식으로 재판에서 활용한다.

우선 지재권 범죄의 경우 최근 산업기술보호법이 법정형을 높인 취지를 반영해 국내 침해 사건의 기본형량의 범위를 기존 징역 8개월∼1년6개월에서 징역 8개월~2년으로 상한선을 높였다. 국외 침해도 기본 영역의 상한선이 3년에서 3년6개월로 높아졌다.

특히 이번 회의에서는 대기업이 중소기업 기술을 침해했을 경우를 특별 가중인자에 포함했다. 이에 따라 중소기업과 경쟁관계에 있거나 납품, 도급 관계에 있는 대기업이 해당 중소기업의 기술을 침해하거나 해외로 유출하는 경우에는 최대 6년 형을 받게 된다.

이날 회의에서는 위증범죄와 도주·범인은닉, 통화·유가증권, 대부업법위반범죄의 새 양형기준도 마련했다.

부도를 예상하고도 수표를 발생하면 가중처벌 된다.
대법원 양형위원회는 다음달 6일까지 관계기관의 의견을 듣고 공청회를 거친 뒤 4월께 최종 의결할 계획이다. 새로운 양형 기준은 의결된 이후 발생한 범죄행위부터 적용된다.
 

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